Ejen pelindung foto

Fotoproteksi adalah konsep yang luas, menyiratkan pelbagai langkah yang bertujuan untuk mengurangkan kesan UFO. Pertama sekali, penggunaan photoprotectors eksogen dan endogen ditunjukkan.

Pemotretan fotogenik, atau pelindung matahari, boleh didapati dalam bentuk emulsi (krim), semburan, minyak. Keperluan moden untuk "ideal" ejen fotoprotektivnomu termasuk baik diterima, bukan toksik, perlindungan yang berkesan daripada sinaran UVA dan UVB pada masa yang sama, faktor perlindungan matahari tinggi (sekurang-kurangnya 40), kestabilan foto, rintangan air yang selesa digunakan. Ramai penyelidik menekankan kepentingan menggunakan penapis kimia, berbanding dengan skrin.

Persiapan pelindung matahari moden dibahagikan kepada perlindungan keutamaan daripada UVB, dari UVA dan gabungan (UVA + UVB).

Dana dengan VVB perlindungan utama adalah pertama disediakan untuk dermatologi. Mereka telah dihasilkan oleh kaedah perindustrian di dunia sejak lewat 30-ies abad yang lalu. Pada masa ini, kumpulan ini termasuk PABA (PABA atau PABA) dan terbitannya, ester asid salisilik (salisilat), ester asid cinnamic (cinnamates), dan bahan lain. Oleh salisilat termasuk kompaun lama dikenali, phenyl salisilat (salol) dan tiga methyl tsiklogeksilsalitsilat (homosalate, Neo Heliopan HMS et al.), Octyl salisilat (Neo Heliopan OS), anthranilate methyl (Neo Heliopan MA), 4-methylbenzylidenecamphor (Emolex 6300, Uvinul MBC 95 et al.), benzalidenkamfornuyu asid sulfonik (Mexoryl SL), octyl triazone (Uvimtl E-150). Cinnamates dibentangkan ethylhexyl methoxycinnamate - EMC (Parsol MCX, Neo Heliopan AV, Escalol 557, dll), Oktokrilenom (Neo Heliopan 303, Parsol 5000, dan lain-lain), isoamyl-n-methoxycinnamate (Neo Heliopan E-1000).

Bermakna dengan perlindungan keutamaan terhadap UVA diwakili oleh butil methoxydibenzoylmethane (avobenzone, atau Parsol 1789. Eusolex 9020, Uvinul VMVM). Di antara mereka, perhatian khusus harus dibayar kepada agen-agen yang baru disintesis seperti asid sulfat terephthalidene-dicamporic-TDSA (Mexoryl SX, dan lain-lain).

Kepada dadah digabungkan terutamanya termasuk pelbagai benzophenones (gidroksibenzon, dioxybenzone, benzophenone, dll). Baru-baru ini muncul di pasaran sambungan berprestasi tinggi yang baru dengan perlindungan yang digabungkan: drometrizoltrisiloksan (DTS) - Mexoryl XL, serta bis-etil-geksiloksifenolmetoksifeniltriazin (BF.MT) - Tinosorb S dan metilena-bis-benzotriazoliltetrametilbutilfenol (MVVT) - Tinosorb M.

Untuk menilai keberkesanan perlindungan daripada UVB, penggunaan dibuat daripada faktor seperti faktor perlindungan matahari (faktor pelindung matahari atau SPF). Kaedah penilaian SPF diseragamkan dan dilaksanakan mengikut peraturan yang ditetapkan oleh organisasi antarabangsa COLIPA, EC (Persatuan Kelengkapan Kosmetik dan Perfume Kosmetik). Ia dinyatakan dalam prima dan menunjukkan tahap perlindungan dari sinaran yang sama. SPF ialah nisbah dos erythema minimum (ED, J / cm2) yang berlaku apabila kulit disinari dengan photoprotector, hingga dos erythematus minimum tanpa fotoprotektor:

SPF = min ED dengan photoprotector / min ED tanpa photoprotector

Menurut klasifikasi baru fotoprotektivnyh ertinya diluluskan oleh COLIPA, bermakna untuk mengeluarkan ultrazaschitoy (SPF> 50, diwakili 50 +), dijahit dengan Meningkatkan (SPF = 30-50) dan perlindungan yang tinggi (SPF = 20-30).

Walau bagaimanapun, kajian terbaru menunjukkan bahawa pelindung matahari dengan skor SPF yang tinggi tidak memberikan tahap perlindungan yang setara dengan sinaran UVA. Telah membuktikan kepentingan penggunaan perlindungan tinggi sinar faktor A. Sejak A sinar tidak eritemogennymi, tahap perlindungan terhadap UVA tidak dapat ditentukan oleh SPF. Pada masa ini, beberapa faktor yang digunakan, yang berdasarkan keterukan dibentangkan seketika dan tertunda pigmentasi kulit, yang berlaku sebagai tindak balas kepada kata sinar pada photoprotectors kulit dilindungi dan tidak dilindungi (1PD - pigme segera / JM gelap, PPD - berterusan pigmen gelap).

Photoprotectors moden dibahagikan dengan mekanisme tindakan ke kimia (penapis) dan mineral (skrin). Penapis kimia menyediakan perlindungan fotokimia dengan menyerap beberapa jenis tenaga, dan skrin mencerminkannya, sebahagiannya menyerap (terutama radiasi B). Pada masa yang sama, penapis kimia adalah yang paling disukai. Kumpulan ini termasuk asid paraminobenzoik, salisilat, cinnamates, benzophenones, avobenzone (Parsol 1789), DTS (Mexoryl XL), dan sebatian lain. Skrin ini termasuk titania, zink oksida, oksida besi merah dan sebatian lain.

Produk pelindung matahari termasuk krim hari untuk muka, untuk badan. Terdapat juga produk pelindung matahari untuk bibir, kontur mata. Dalam beberapa tahun kebelakangan ini, pelindung matahari telah banyak digunakan untuk pelbagai persediaan kosmetik untuk penjagaan rambut. Sebagai peraturan, mereka direka untuk penjagaan rambut semasa bercuti di laut dan direka untuk melindungi rambut dari kedua-dua pendedahan ultraviolet dan dari hubungan dengan air garam. Mereka ditambah dengan bentuk gel, aerosol, buih, krim rambut.

Ia juga harus diingat bahawa memakai topi atau topi pada hari yang cerah memberikan rambut dan kulit kulit kepala dengan pertahanan yang serupa dengan faktor pelindung matahari (SPF) 5-7.

[1], [2], [3], [4], [5], [6], [7],